제품 개요
이 고에너지 나노 볼 밀은 고처리량 시료 준비, 초미세 분쇄 및 첨단 기계화학 합성을 위한 최첨단 솔루션입니다. 강한 충격과 전단 마찰을 통해 높은 운동 에너지를 부여하도록 설계된 이 장치는 5 mm 이하의 공급 원료를 나노미터 스케일(80 nm 미만)까지 빠르게 입자 크기를 줄입니다. 고주파 수평 원형 운동을 활용하여 이 실험실용 밀은 분쇄 매체를 극단적인 속도로 구동하여 현대 재료 과학, 고체 상태 화학 및 나노 구조 분말 공정에 없어서는 안 될 장비입니다.
연구 및 산업 품질 관리 환경에서 최대의 다용도성을 갖도록 설계된 이 장비는 경질, 중경질, 취성, 함수, 섬유질 및 점성 재료를 포함한 다양한 종류의 시료를 처리할 수 있습니다. 이중 플랫폼 구조는 동일한 작동 매개변수 하에서 두 개의 분쇄 용기를 동시에 처리할 수 있습니다. 기계화학 반응, 신규 금속 상의 기계적 합금화, 콜로이드 분산 또는 비자성 미세 분쇄를 수행하는 경우에도 이 시스템은 건식 및 습식 분쇄 공정 모두에서 일관되게 재현 가능한 결과를 제공합니다.
엄격한 연속 작동을 견딜 수 있도록 제작된 이 시스템은 고강도 구조 부품, 첨단 안전 인터록 및 지능형 디지털 제어 장치를 통합합니다. 통합 공정 모니터링, 지능형 전원 차단 메모리 및 최대 2000 r/min의 동적 속도 조정을 특징으로 하여, 장시간 기계화학 처리 과정에서 연구자들이 에너지 투입과 열역학 조건을 완벽하게 제어할 수 있습니다.
주요 특징
- 고운동 수평 원형 운동: 300 ~ 2000 r/min의 고회전 속도로 분쇄 매체를 구동하여 극심한 충격 및 전단 에너지를 생성하며, 처리 시간을 크게 단축하면서 80 nm 미만의 목표 입도를 달성합니다.
- 이중 분쇄 스테이션: 고강도 알루미늄 합금으로 제작된 두 개의 독립적인 용기 안착 위치를 특징으로 하며, 시료 처리량을 두 배로 늘리거나 동일한 운동 조건 하에서 나란히 비교 실험을 수행할 수 있습니다.
- 자동 전자기식 덮개 잠금: 자동 전자기식 플립탑 덮개 시스템을 통합하여 회전 중 작업 접근을 차단하고, 강력한 밀링 주기 전 과정에서 작업자 안전을 보장하고 밀봉 무결성을 유지합니다.
- 퀵 클램핑 메커니즘: 인체공학적으로 설계된 퀵 클램핑 프레임워크를 사용하여 분쇄 용기를 단단히 고정하며, 설정 시간을 최소화하면서 연속 고속 작동 중 진동으로 인한 풀림을 방지합니다.
- 다중 모드 작동 유연성: 연속, 간헐 및 정/역 교차 운동 모드를 지원하여 특정 재료 특성에 맞게 기계력 방향과 에너지 소산을 맞춤 설정할 수 있습니다.
- 포괄적인 공정 제어 및 메모리: 디지털 속도 제어, 최대 99시간 99분 99초까지 설정 가능한 고정밀 타이머, 다중 레시피 데이터 저장 및 자동 전원 차단 메모리가 장착되어 원활한 공정 실행을 보장합니다.
- 통합 안전 및 온도 모니터링: 실시간 센서 세트가 내부 작동 온도를 모니터링하며, 통합 과부하 보호 기능이 고토크 또는 고점도 분쇄 작업 중 구동 부품을 자동으로 보호합니다.
- 분위기 제어 밀링 기능: 건식 분쇄, 습식 콜로이드 밀링 및 진공 또는 불활성 가스 분위기 분쇄를 지원하여 반응성 또는 수분 민감성 시료를 산화나 오염 없이 처리할 수 있습니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 실리콘 나노 구조 공정 | 고용량 리튬이온 배터리 음극 재료용 마이크론 스케일 실리콘을 50~80 nm까지 탑다운 방식으로 미세화합니다. | 에너지 효율이 높으면서 좁은 입자 크기 분포를 달성하여 향상된 전기화학적 성능을 구현합니다. |
| 기계화학 합금 합성 | 고변형 충격 및 원자 상호 확산을 통한 반응성 금속 분말(예: Ni-Pd 시스템)의 기계적 합금화. | 화학 용매 없이도 더 낮은 합성 온도에서 고체 상태 반응과 상 변형을 유도합니다. |
| 첨단 세라믹 분말 준비 | 지르코니아, 알루미나 및 전기 세라믹과 같은 고순도 산화물 세라믹의 초미세 건식 및 습식 분쇄. | 특수 텅스텐 카바이드 또는 지르코니아 툴을 사용하여 철 오염을 방지하면서 조대 응집체를 제거합니다. |
| 배터리 및 에너지 재료 개발 | 고체 전해질, 양극 전구체 및 전도성 첨가제의 균질화, 콜로이드 밀링 및 나노 구조화. | 균일한 성분 분산, 높은 충전 밀도 및 일관된 배치 간 화학적 균질성을 보장합니다. |
| 제약 및 콜로이드 밀링 | 활성 제약 성분, 유기 화합물 및 섬유 매트릭스의 미세 분쇄 및 콜로이드 분산. | 제어된 간헐적 사이클을 통해 열 안정성을 유지하면서 서브미크론 콜로이드 현탁 상태에 도달합니다. |
| 오염 없는 비자성 분쇄 | PTFE 또는 텅스텐 카바이드 설정을 사용한 민감한 전자 재료, 반도체 및 분석 시료의 밀링. | 분석 시료 준비 중 불필요한 자기장 간섭과 금속 불순물 유입을 방지합니다. |
기술 사양
| 매개변수 카테고리 | 사양 세부정보 (제품 품목 번호: PP-VB31) |
|---|---|
| 모델 명칭 | PP-VB31 |
| 작동 원리 | 운동 충격력 및 마찰력 |
| 운동 역학 | 수평 고주파 원형 운동 |
| 처리 모드 | 기계화학, 기계적 합금화, 분쇄, 혼합, 균질화, 콜로이드 분쇄, 무오염 분쇄 |
| 지원되는 시료 특성 | 경질, 중경질, 취성, 건식, 함수, 섬유질, 점성 |
| 분쇄 분위기 옵션 | 건식 분쇄, 습식 분쇄, 진공 / 제어 분위기 분쇄 |
| 공급 입자 크기 | < 5 mm |
| 최종 입자 미세도 | < 80 nm |
| 플랫폼 용량 | 2개의 분쇄 스테이션 |
| 회전 속도 범위 | 300 ~ 2000 r/min (무단계 조정) |
| 분쇄 시간 디지털 범위 | 00시 00분 01초 ~ 99시 99분 99초 |
| 작동 모드 | 연속 운전, 간헐적 운전, 정/역 방향 교차 |
| 제어 및 모니터링 기능 | 속도 조정, 데이터 저장, 전원 차단 메모리, 과부하 보호, 온도 모니터링 |
| 안전 및 하우징 특징 | 자동 전자기 잠금 플립 덮개, 퀵 클램핑 시스템 |
| 호환 가능한 분쇄 용기 재질 | 스테인리스 스틸, 경화 강철, 텅스텐 카바이드, 지르코니아, PTFE |
| 사용 가능한 분쇄 용기 부피 | 80 ml, 125 ml |
| 호환 가능한 분쇄 볼 재질 | 텅스텐 카바이드, 지르코니아, 마노, 스테인리스 스틸 |
| 분쇄 볼 직경 범위 | 1 mm ~ 30 mm (선택 가능) |
| 플랫폼 및 용기 받침대 재질 | 가공된 고강도 알루미늄 합금 |
| 전기 시스템 요구 사항 | 100–120V / 200–240V AC, 50–60 Hz, 단상 |
| 모터 출력 전력 | 1500 W |
| 전원 케이블 호환성 | 한국 규격, 유럽 규격, 미국 규격, 영국 규격 등 |
| 보호 등급 | IP30 |
| 적합성 표준 | CE 인증 |
| 순중량 | 128 kg |
| 전체 크기 (가로 × 세로 × 높이) | 520 mm × 520 mm × 380 mm |
이 제품을 선택해야 하는 이유
- 타협 없는 기계 운동 에너지: 분당 최대 2000회의 고주파 원형 운동을 제공하도록 설계되어, 빠르고 안정적으로 진정한 80nm 이하 입자 미세화를 달성하는 데 필요한 극단적인 힘 벡터를 생성합니다.
- 우수한 엔지니어링 및 구조적 안정성: 고강도 알루미늄 합금 용기 받침대와 128kg의 견고한 플랫폼 섀시로 제작되어 진동을 최소화하고 기계적 마모를 줄이며, 지속적인 고부하 하에서도 구조적 수명을 보장합니다.
- 오염 없는 재료 유연성: 지르코니아, 텅스텐 카바이드, 마노 및 PTFE를 포함한 광범위한 순수 불활성 용기 및 매체 옵션과 호환되어, 민감한 화학 및 분석 공정에서 교차 오염에 대한 완벽한 보호를 보장합니다.
- 첨단 작동 안전 및 자동화: 자동 전자기 덮개 잠금, 연속 실시간 온도 모니터링 및 과부하 보호를 통합하여 사용자 안전을 확보하고 고가 연구 배치를 보호합니다.
- 완전한 공정 제어 및 데이터 무결성: 프로그래밍 가능한 방향 순환, 다중 매개변수 레시피 저장 및 전원 차단 메모리 유지 기능을 특징으로 하여, 학술 및 산업 연구 실험실에서 완벽한 배치 간 재현성을 보장합니다.
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