제품 개요


이 광촉매 고에너지 진동 볼 밀은 고급 나노 분쇄, 입도 감소 및 in-situ 광-기계화학 합성을 위한 최첨단 솔루션을 제공합니다. 고강도 광 조사를 고에너지 기계식 분쇄 챔버에 직접 통합함으로써, 이 시스템은 고주파 기계적 충격과 집중된 전단력을 제어된 광자 에너지와 동시에 적용합니다. 이 이중 에너지 메커니즘을 통해 연구팀과 프로세스 엔지니어는 기존 열처리 방식이 요구하는 것보다 낮은 주변 온도에서 복잡한 화학 변환, 고체 상 반응 및 표면 개질을 수행할 수 있습니다.
경질, 중/저경도, 취성, 연질, 섬유질, 탄성 및 점성 재료를 포함한 매우 다양한 샘플 유형을 처리하도록 설계된 이 장비는 반도체 개발, 태양전지 소재 합성, 배터리 전극 정제, 광중합 및 촉매 분체 공학 분야에서 탁월한 성능을 발휘합니다. 이 장치는 건식, 습식 및 진공 밀링 환경에서 효과적으로 작동하며 최대 10mm의 투입 크기를 수용하고 재료를 일관되게 100나노미터 규모로 정제합니다. 고투과율 석영 유리로 제작된 듀얼 분쇄 스테이션은 샘플 오염을 방지하면서 실시간 광자 결합을 가능하게 합니다.
엄격한 산업용 연구실 및 파일럿 규모 테스트를 위해 제작된 이 장비는 IP65 보호 등급, 견고한 스테인리스 스틸 작업대 및 고급 가변 주파수 구동 시스템을 특징으로 합니다. 자동화된 안전 인터록, 과열 보호 및 통합 열 방출 메커니즘은 장시간 실행 중 연속적이고 반복 가능한 성능을 보장합니다. 정밀 평면 아왕복 운동과 사용자 정의 가능한 광원 옵션의 결합으로 이 기기는 현대 재료 과학 및 그린 화학 응용 분야에서 없어서는 안 될 플랫폼으로 자리 잡고 있습니다.
주요 특징
- 통합 광촉매 광 조사 어셈블리: 분쇄 중 가시광선 또는 비가시 UV/IR 광을 반응 영역에 직접 주입하는 전용 사용자 정의 광 모듈(100~1100nm 파장 범위, 100W 출력)을 특징으로 하며, 진정한 in-situ 광-기계화학 반응과 광촉매 테스트를 가능하게 합니다.
- 정밀 왕복 평면 아크 운동: 180~1800 r/min으로 작동하는 가변 주파수 모터로 구동되는 2차원 아크 운동 프로필로 작동하여, 급속한 서브마이크론 및 나노미터 규모의 입자 분해를 위한 강력한 충격 및 마찰 에너지를 생성합니다.
- 고투과 석영 유리 반응 용기: UV-Vis-NIR 스펙트럼 전체에 걸쳐 우수한 광학 투명도를 제공하면서 열 충격 저항성과 높은 기계적 내구성을 유지하는 초순수 석영 유리로 제작된 듀얼 50ml 분쇄 병을 장착하고 있습니다.
- 다중 모드 분위기 및 용매 호환성: 건식 분쇄, 습식 슬러리 처리 및 불활성 가스 진공 분쇄를 완벽하게 지원하여 연구원이 운동학적 조건을 최적화하고 산소 또는 수분에 민감한 화합물을 보호할 수 있습니다.
- 종합 프로그래밍 가능한 디지털 컨트롤러: 비휘발성 전원 차단 메모리, 다중 레시피 데이터 저장 및 자동화된 동적 속도 보상을 포함하여 연속, 간헐 및 타이밍 작동 모드를 지원하는 고급 마이크로프로세서 컨트롤을 포함합니다.
- 견고한 열 관리 및 차폐: 통합 스테인리스 스틸 냉각 작업대 및 고효율 열 방출 채널로 제작되었으며, 광자 분포를 최적화하고 강력한 방사선으로부터 작업자를 보호하기 위해 완전한 외부 광 차폐 후드 및 내부 반사경과 결합됩니다.
- 인체공학적 빠른 클램핑 및 모듈식 설계: 설정 시간을 최소화하고 높은 G력 하에서 안정적인 장착을 보장하는 신속한 작동 병 클램핑 메커니즘을 특징으로 하며, 유지보수를 간소화하고 빠른 광학 수정을 위한 쉽게 분리 가능한 광 어셈블리와 결합됩니다.
- 산업 등급 안전 및 보호 기능: 까다로운 연구실 환경에서 안정적인 작동 안전을 제공하기 위해 전자 과부하 보호, 위험 작동 인터록 및 IP65 인클로저 밀봉으로 설계되었습니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 나노 구조 실리콘 및 배터리 소재 | 불활성 또는 진공 분위기 하에서 고에너지 충격과 기계적 전단을 결합하여 마이크론 규모의 실리콘과 배터리 활성 물질을 100nm까지 정제합니다. | 산화물 오염을 최소화하면서 나노 구조화 역학을 가속화하여 에너지 밀도와 충방전 사이클 안정성을 향상시킵니다. |
| 광촉매 분체 합성 | 연속 광 조사 하에서 TiO2, g-C3N4 및 페로브스카이트 구조의 in-situ 기계화학 도핑 및 표면 기능화를 수행합니다. | 결정 격자에 직접 구조적 결함과 도펀트를 도입하여 광 흡수 한계와 양자 효율을 향상시킵니다. |
| 기계화학 유기 합성 | 기계적 스트레스와 특정 광 파장 하에서 용매 없는 또는 최소 용매 유기 커플링 반응, 광중합 및 광 경화를 수행합니다. | 기계적 에너지와 광자 여기로 유독성 유기 용매를 대체하여 환경 친화적인 조건에서 더 높은 반응 수율을 달성합니다. |
| 고체 상 소재 가공 | 정밀하게 제어된 진동 사이클 하에서 듀얼 분쇄 스테이션 전체에 걸쳐 경질, 취성, 연질 또는 섬유질 복합 전구체를 균질화합니다. | 열 소결 전에 구성 요소의 원자 수준 분포를 보장하여 상 변환 온도를 획기적으로 낮춥니다. |
| 제약 나노 제제 | 고순도 세라믹 미디어를 사용하여 석영 병 내에서 유효 성분(API)과 부형제를 초미세 습식 혼합 분쇄합니다. | 금속 불순물이나 열 분해를 유입하지 않으면서 API 표면적과 용해 역학을 증가시킵니다. |
| 환경 분해 연구 | 제어된 UV/Vis 노출 하에서 미세 플라스틱, 오염 물질 및 폐 촉매의 실시간 기계적 마모 및 광 분해를 연구합니다. | 운동학적 기계적 힘과 광 방사선이 결합되어 가속된 가혹한 다중 벡터 환경 노화를 시뮬레이션합니다. |
기술 사양
| 매개변수 범주 | 사양 세부 정보 | 값 / 기능 |
|---|---|---|
| 제품 식별 | 장비 모델 / 식별자 | PP-VB32 |
| 작동 메커니즘 | 처리 원리 | 충격력 및 마찰력 |
| 운동 패턴 | 평면 아크 왕복 운동 | |
| 진동 주파수 범위 | 180 – 1800 r/min (무단 조절) | |
| 제어 유형 | 가변 주파수 제어 (VFD) | |
| 재료 호환성 | 지원되는 투입 샘플 특성 | 경질, 중/저경도, 취성, 건식, 점성, 섬유질, 연질, 탄성 |
| 최대 입력 투입 입자 크기 | < 10 mm | |
| 최종 달성 가능 입자 크기 | ~100 nm | |
| 처리 모드 | 분쇄, 혼합, 균질화, 기계화학, 광촉매, 광 경화, 광 조사 | |
| 분쇄 스테이션 구성 | 분쇄 플랫폼 용량 | 2 스테이션 |
| 분쇄 병 재질 | 고 광 투과 석영 유리 | |
| 분쇄 병 용량 | 병당 50 ml (2개 포함) | |
| 분쇄 미디어 크기 범위 | 0.1 mm – 25 mm (선택 가능) | |
| 호환되는 분쇄 미디어 재질 | 텅스텐 카바이드, 지르코니아, 마노, 스테인리스 스틸 등 | |
| 광학 및 광촉매 시스템 | 광 스펙트럼 옵션 | 가시광선 / 비가시광선 (UV / IR) |
| 광 파장 범위 | 100 – 1100 nm (사용자 정의 가능) | |
| 광원 출력功率 | 100 W (사용자 정의 가능) | |
| 광 조사 각도 | 90° – 120° | |
| 조사 거리 | 42 mm | |
| 광학 설계 | 분리 가능 / 교체 가능 광원 | |
| 포함된 광 액세서리 | 전체 광 차폐 후드 및 내부 반사경 후드 | |
| 제어 및 보조 기능 | 핵심 제어 기능 | 연속, 간헐, 타이밍 작동, 속도 튜닝, 데이터 저장, 전원 차단 메모리, 과부하 보호, 위험 작업 보호, 특수 광 조사 어셈블리, 광 스위치 제어 |
| 보조 기능 향상 | 빠른 클램핑 어셈블리, 반사경 후드, 광 차폐 후드, 스테인리스 스틸 작업대, 활성 열 방출 | |
| 전기 및 물리 사양 | 전기 요구 사항 | 200–240V AC, 50/60 Hz, 550 W |
| 전기 플러그 호환성 | 국가 표준, 유럽, 미국, 영국 등 | |
| 장비 순중량 | 98 kg | |
| 외부 치수 (W × D × H) | 680 mm × 540 mm × 320 mm | |
| 방호 등급 | IP65 | |
| 규제 인증 | CE 규격 준수 |
이 제품을 선택해야 하는 이유
- 상승 작용의 이중 에너지 처리: 선택 가능한 파장의 광 조사와 고주파 기계적 충격 및 전단을 결합하여 이 시스템은 열역학적 반응 장벽을 돌파하여 기존 밀링 장비로는 불가능한 독특한 고체 상 화학을 가능하게 합니다.
- 우수한 샘플 순도 및 광 투과율: 정밀 가공된 석영 유리 용기와 고순도 세라믹 분쇄 미디어의 결합은 금속 오염 위험을 제거하면서 반응 매체로의 광 전달을 극대화합니다.
- 산업용 구조 품질 및 안전 규정 준수: CE 인증, IP65 환경 보호, 동적 열 방출 및 포괄적인 광 차폐를 포함하여 엄격한 표준으로 제작되어 고강도 UV 및 레이저 실험 중 작업자를 보호합니다.
- 유연한 응용 적응성: 탄성 중합체부터 경질 산화물에 이르기까지 광범위한 샘플 질감을 건식, 습식 및 진공 모드로 수용하며, 정확한 파장 요구 사항에 맞춰 조정된 완전히 사용자 정의 가능한 광원(100~1100nm)으로 지원됩니다.
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